English
Tetrametilamonijum hidroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% vodeni rastvor) Istaknuta slika
  • Tetrametilamonijum hidroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% vodeni rastvor)

Tetrametilamonijum hidroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% vodeni rastvor)

Kratki opis:

Tetrametilamonijum hidroksid (25% vodeni rastvor)

Sinonimi: TMAH

CAS: 75-59-2

Analiza: 24,5~25,5%

Izgled: Bezbojna tečnost

Kvartarne amonijumove soli, visokog kvaliteta

Kontakt: Dr. Alvin Huang

Mobilni/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Detalji o proizvodu

Srodni proizvodi

Oznake proizvoda

Opis:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Hemijska svojstva:

Hemijski naziv Tetrametilamonijum hidroksid (25% vodeni rastvor)
Sinonimi TMAH (25% vodeni rastvor)
CAS broj 75-59-2
CAT broj RF-PI1749
Stock Status Na zalihama, proizvodnja raste do tona
Molecular Formula (CH3)4NOH
Molekularna težina 91.15
Indeks loma (N20/D) 1.378~1.384
Miris Snažan miris nalik amonijaku
Upozorenje na opasnost Visoko toksično!Zapaljiva tecnost!
Brand Ruifu Chemical

Specifikacije:

Stavka Specifikacije
Izgled Bezbojna tečnost
Test
 24,5~25,5% (test titracijom)
Hlorid <500ppm
kalij (K) <5ppm
natrijum (Na) <5ppm
Boja <50APHA
Test Standard Enterprise Standard
Upotreba za Photoresist Research

Pakovanje i skladištenje:

Paket: 25kg/bubanj, ili prema zahtjevu kupca.

Uvjeti skladištenja:Čuvati u zatvorenim posudama na hladnom i suvom mestu;Zaštititi od svjetlosti i vlage.

Prednosti:

1

FAQ:

primjena:

Tetrametilamonijum hidroksid (TMAH) (CAS: 75-59-2) je kvaternarna amonijumova so koja se generalno koristi kao anizotropno jetkač za silicijum zbog svoje visoke brzine jetkanja silicijuma, osnovno otapalo u razvoju kiselog fotootpornog materijala u procesu fotolitografije, kao surfaktant u sinteza ferofluida i kao polarografski reagens.Nalazi primenu u proizvodnji organskog silicijuma, gde se koristi za izbeljivač i sredstvo za čišćenje računarskih silikonskih pločica.Također je uključen u prečišćavanje nekih metalnih elemenata.

Napišite svoju poruku ovdje i pošaljite nam je