English
Hidròxid de tetrametilamoni (TMAH) CAS 75-59-2 (solució aquosa al 25%) Imatge destacada
  • Hidròxid de tetrametilamoni (TMAH) CAS 75-59-2 (solució aquosa al 25%)

Hidròxid de tetrametilamoni (TMAH) CAS 75-59-2 (solució aquosa al 25%)

Descripció breu:

Hidròxid de tetrametilamoni (solució aquosa al 25%)

Sinònims: TMAH

CAS: 75-59-2

Assaig: 24,5 ~ 25,5%

Aspecte: Líquid incolor

Sals d'amoni quaternari, d'alta qualitat

Contacte: Dr. Alvin Huang

Mòbil/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Detall del producte

Productes relacionats

Etiquetes de producte

Descripció:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Propietats químiques:

Nom químic Hidròxid de tetrametilamoni (solució aquosa al 25%)
Sinònims TMAH (solució aquosa al 25%)
Número CAS 75-59-2
Número CAT RF-PI1749
Estat de l'estoc En estoc, escala de producció fins a tones
Fórmula molecular (CH3)4NOH
Pes molecular 91.15
Índex de refracció (N20/D) 1.378~1.384
Olor Forta olor semblant a l'amoníac
Avís de perill Altament tòxic!Líquid inflamable!
Marca Ruifu Química

Especificacions:

Article Especificacions
Aparença Líquid incolor
Assaig
 24,5 ~ 25,5% (assaig per valoració)
Clorur <500 ppm
Potassi (K) <5 ppm
Sodi (Na) <5 ppm
Color <50APHA
Estàndard de prova Estàndard empresarial
Ús per a la recerca de fotoresistències

Paquet i emmagatzematge:

paquet: 25 kg/tambor, o segons el requisit del client.

Condicions d'emmagatzematge:Emmagatzemar en recipients tancats en un lloc fresc i sec;Protegiu de la llum i la humitat.

Avantatges:

1

PMF:

Aplicació:

L'hidròxid de tetrametilamoni (TMAH) (CAS: 75-59-2) és una sal d'amoni quaternària que s'utilitza generalment com a gravador anisotròpic per al silici a causa de la seva alta taxa de gravat de silici, dissolvent bàsic en el desenvolupament de fotoresists àcids en el procés de fotolitografia, com a tensioactiu en la síntesi de ferrofluid i com a reactiu polarogràfic.Troba aplicació en la producció de silici orgànic, on s'utilitza per a l'agent de neteja de superfícies d'hòsties de silici per ordinador.També participa en la purificació d'alguns elements metàl·lics.

Escriu el teu missatge aquí i envia'ns-ho