Hexamethyldisilazan (HMDS) CAS 999-97-3 Reinheit >99,0 % (GC)
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Chemischer Name | Hexamethyldisilazan |
Synonyme | HMDS;1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazan;Hexamethyldisilylamin |
CAS-Nummer | 999-97-3 |
CAT-Nummer | RF-PI2071 |
Lagerbestand | Auf Lager, Produktionskapazität 3000MT/Jahr |
Molekularformel | C6H19NSi2 |
Molekulargewicht | 161,40 |
Schmelzpunkt | -78℃ |
Siedepunkt | 123,0~126,0℃ (wörtlich) |
Flammpunkt | 8℃(wörtl.) |
Empfindlichkeit | Feuchtigkeitsempfindlich.Hygroskopisch |
Löslichkeit (mischbar mit) | Äther, Benzol |
Wasserlöslichkeit | Reagiert mit Wasser |
Marke | Ruifu Chemical |
Artikel | Spezifikationen |
Aussehen | Farblose transparente Flüssigkeit, keine suspendierten Substanzen oder mechanischen Verunreinigungen |
Reinheit / Analysemethode | >99,0 % (GC) |
Brechungsindex n20/D | 1.406~1.409 |
Spezifisches Gewicht (20/20℃) | 0,772~0,776 |
Infrarotspektrum | Entspricht der Struktur |
Gesamtverunreinigungen | <1,00 % |
Farbtest | 0~20 |
Teststandard | Unternehmensstandard |
Paket:Eiseninnentrommel mit Kunststoffbeschichtung, jeweils 150 kg netto, oder nach Kundenwunsch
Lagerbedingungen:In verschlossenen Behältern kühl und trocken lagern;Vor Licht und Feuchtigkeit schützen
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Hexamethyldisilazan (HMDS) (CAS: 999-97-3), alkalisches Silanisierungsschutzmittel, anorganisches Behandlungsmittel für Füllungen.Hexamethyldisilazan ist eine organische Siliciumverbindung und ein recht nützliches Silanisierungsmittel.Es ist ein Reagenz zur Herstellung von Trimethylsilyl-Derivaten.HMDS kann zur Silanisierung der Oberfläche von Siliziumwasser und Cellulose verwendet werden.HMDS kann auch zur Dehydrierung von Zellen aus Biomaterialien für die Rasterelektronenmikroskopie (REM) verwendet werden.Die Hexamethyldisilazan-Beschichtung verschiedener Nanopartikel macht sie beständig gegen Wasserverschmutzung und Ausflockung während der Synthese.HMDS kann auch als Modifikator verwendet werden, um die Form, die Bildung von Agglomeratoberflächen und die Porengröße von Siliciumdioxidpartikeln zu steuern.HMDS ist ein Haftvermittler für Photoresist in der Photolithographie und eignet sich auch für die Pyrolyse-Gaschromatographie-Massenspektrometrie, um die Nachweisbarkeit von Verbindungen mit polaren funktionellen Gruppen zu verbessern.In Gegenwart eines Katalysators reagiert es mit Alkoholen oder Phenolen zu Trimethylalkoxysilan oder Trimethylaroxysilan.Reagiert mit wasserfreiem Chlorwasserstoff unter Freisetzung von NH3 oder NH4Cl unter Bildung von Trimethylchlorsilan.Es ist in organischen Lösungsmitteln löslich und wird bei Kontakt mit Luft schnell hydrolysiert, um Trimethylsilanol und Hexamethyldisilylether zu bilden.Deaktivierung chromatographischer Trägermaterialien.Hexamethyldisilazan wird hauptsächlich als Methylsilan-Alkylierungsmittel (wie Amikacin, Penicillin, Cephalosporine und Arten von Penicillin-Derivaten) und als Hydroxylschutzmittel von Antibiotika verwendet.Es wird als Oberflächenbehandlungsmittel für Kieselgur, weißen Ruß, Titan und blonde Additive für Fotolacke in der Halbleiterindustrie verwendet.Es wird als Mittel zur Behandlung der Reißfestigkeit verwendet.HMDS wird als Lösungsmittel in der organischen Synthese und der metallorganischen Chemie verwendet.HMDS wird zur Herstellung von Trimethylsilylethern aus Hydroxyverbindungen verwendet.Es wird als Alternative zur kritischen Punkttrocknung bei der Probenvorbereitung in der Elektronenmikroskopie eingesetzt.Es wird dem Analyten zugesetzt, um während der Pyrolyse in der Gaschromatographie-Massenspektrometrie silylierte Diagnoseprodukte zu erhalten.