Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % wässrige Lösung)

Kurze Beschreibung:

Tetramethylammoniumhydroxid (25 %ige wässrige Lösung)

Synonyme: TMAH

CAS: 75-59-2

Gehalt: 24,5–25,5 %

Aussehen: Farblose Flüssigkeit

Quartäre Ammoniumsalze, hohe Qualität

Kontakt: Dr. Alvin Huang

Mobil/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Produktdetail

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Beschreibung:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Chemische Eigenschaften:

Chemischer Name Tetramethylammoniumhydroxid (25 %ige wässrige Lösung)
Synonyme TMAH (25 % wässrige Lösung)
CAS-Nummer 75-59-2
CAT-Nummer RF-PI1749
Lagerbestand Auf Lager, Produktionsmaßstab bis zu Tonnen
Molekularformel (CH3)4NOH
Molekulargewicht 91,15
Brechungsindex (N20/D) 1,378~1,384
Geruch Starker ammoniakartiger Geruch
Gefahrenhinweis Hochgiftig!Brennbare Flüssigkeit!
Marke Ruifu Chemical

Spezifikationen:

Artikel Spezifikationen
Aussehen Farblose Flüssigkeit
Test
24,5–25,5 % (Bestimmung durch Titration)
Chlorid <500 ppm
Kalium (K) <5ppm
Natrium (Na) <5ppm
Farbe <50APHA
Teststandard Unternehmensstandard
Verwendung für Photoresist-Forschung

Verpackung und Lagerung:

Paket: 25 kg/Trommel oder nach Kundenwunsch.

Lagerbedingungen:In verschlossenen Behältern kühl und trocken lagern;Vor Licht und Feuchtigkeit schützen.

Vorteile:

1

FAQ:

Anwendung:

Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH) (CAS: 75-59-2) ist ein quartäres Ammoniumsalz, das aufgrund seiner hohen Siliziumätzrate im Allgemeinen als anisotropes Ätzmittel für Silizium, basisches Lösungsmittel bei der Entwicklung von saurem Fotolack im Fotolithographieprozess und als Tensid in verwendet wird die Synthese von Ferrofluid und als polarographisches Reagenz.Es findet Anwendung bei der Herstellung von organischem Silizium, wo es als Aufheller und Reinigungsmittel für Computer-Siliziumwaferoberflächen verwendet wird.Es ist auch an der Reinigung einiger metallischer Elemente beteiligt.

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