English
Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% vodena otopina) Istaknuta slika
  • Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% vodena otopina)

Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% vodena otopina)

Kratki opis:

Tetrametilamonijev hidroksid (25% vodena otopina)

Sinonimi: TMAH

CAS: 75-59-2

Analiza: 24,5~25,5%

Izgled: Bezbojna tekućina

Kvarterne amonijeve soli, visoke kvalitete

Kontakt: Dr. Alvin Huang

Mobitel/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Pojedinosti o proizvodu

Povezani proizvodi

Oznake proizvoda

Opis:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Kemijska svojstva:

Kemijski naziv Tetrametilamonijev hidroksid (25% vodena otopina)
Sinonimi TMAH (25% vodena otopina)
CAS broj 75-59-2
CAT broj RF-PI1749
Stanje zaliha Na zalihama, proizvodnja do tona
Molekularna formula (CH3)4NOH
Molekularna težina 91.15
Indeks loma (N20/D) 1,378~1,384
Miris Jak miris poput amonijaka
Upozorenje na opasnost Vrlo otrovno!Zapaljiva tekućina!
Marka Ruifu Chemical

Tehnički podaci:

Artikal Tehnički podaci
Izgled Bezbojna tekućina
Ispitivanje
 24,5~25,5% (Testiranje titracijom)
Klorid <500 ppm
kalij (K) <5 ppm
Natrij (Na) <5 ppm
Boja <50APHA
Testni standard Enterprise Standard
Korištenje za istraživanje fotorezista

Pakiranje i skladištenje:

Paket: 25kg/bubanj, ili prema zahtjevu kupca.

Uvjeti skladištenja:Čuvati u zatvorenim spremnicima na hladnom i suhom mjestu;Zaštititi od svjetlosti i vlage.

Prednosti:

1

PITANJA:

Primjena:

Tetrametilamonijev hidroksid (TMAH) (CAS: 75-59-2) je kvaterna amonijeva sol koja se općenito koristi kao anizotropno sredstvo za jetkanje silicija zbog svoje visoke brzine jetkanja silicija, osnovno otapalo u razvoju kiselog fotorezista u procesu fotolitografije, kao surfaktant u sintezi ferofluida i kao polarografski reagens.Primjenu nalazi u proizvodnji organskog silicija, gdje se koristi za posvjetljivač površine računalnih silicijskih pločica i sredstvo za čišćenje.Također je uključen u pročišćavanje nekih metalnih elemenata.

Ovdje napišite svoju poruku i pošaljite nam je