Tetramethylammonium Idroksid (TMAH) CAS 75-59-2 (25% solisyon akeuz)
Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com
Non Chimik | Tetramethylammonium Idroksid (25% solisyon akeuz) |
Sinonim | TMAH (25% solisyon akeuz) |
Nimewo CAS | 75-59-2 |
Nimewo CAT | RF-PI1749 |
Estati Stock | Nan Stock, Pwodiksyon Echèl Jiska Tòn |
Fòmil molekilè | (CH3)4NOH |
Pwa molekilè | 91.15 |
Endèks refraktif (N20/D) | 1.378 ~ 1.384 |
Odè | Gwo odè tankou amonyak |
Avètisman danje | Trè toksik!Likid ki ka pran dife! |
Mak | Ruifu Chimik |
Atik | Espesifikasyon |
Aparans | Likid san koulè |
Esè | 24.5 ~ 25.5% (Tès pa Titre) |
Klori | <500ppm |
Potasyòm (K) | <5ppm |
Sodyòm (Na) | <5ppm |
Koulè | <50APHA |
Tès Creole | Enterprise Standard |
Itilizasyon | pou Photoresist Research |
Pake: 25kg/tanbou, oswa selon kondisyon kliyan an.
Kondisyon Depo:Sere nan resipyan ki fèmen nan yon kote ki fre ak sèk;Pwoteje kont limyè ak imidite.
Tetramethylammonium Idroksid (TMAH) (CAS: 75-59-2) se yon sèl amonyòm kwatènè jeneralman yo itilize kòm yon anisotwopik etchant pou Silisyòm akòz gwo pousantaj silisyòm grave li yo, sòlvan debaz nan devlopman nan fotorezist asid nan pwosesis fotolitografi, kòm surfactant nan sentèz la nan ferrofluid ak kòm yon reyaktif polarografik.Li jwenn aplikasyon nan pwodiksyon an nan Silisyòm òganik, kote li se itilize pou Silisyòm Silisyòm sifas klere ak ajan netwayaj.Li patisipe tou nan pirifikasyon kèk eleman metalik.