English
Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (Larutan Berair 25%) Gambar Unggulan
  • Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Larutan Berair)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Larutan Berair)

Deskripsi Singkat:

Tetrametilamonium Hidroksida (Larutan Berair 25%)

Sinonim: TMAH

CAS: 75-59-2

Pengujian: 24,5~25,5%

Penampilan: Cairan Tidak Berwarna

Garam Amonium Kuarter, Kualitas Tinggi

Kontak: Dr. Alvin Huang

Seluler/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Rincian produk

Produk-produk terkait

Label Produk

Keterangan:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Sifat Kimia:

Nama kimia Tetrametilamonium Hidroksida (Larutan Berair 25%)
Sinonim TMAH (Larutan Berair 25%)
Nomor CAS 75-59-2
Nomor KUCING RF-PI1749
Status stok Stok Tersedia, Skala Produksi Hingga Ton
Formula molekul (CH3)4NOH
Berat molekul 91.15
Indeks Bias (N20/D) 1.378~1.384
Bau Bau Seperti Amonia yang Kuat
Peringatan Bahaya Sangat Beracun!Cairan yang mudah terbakar!
Merek Kimia Ruifu

Spesifikasi:

Barang Spesifikasi
Penampilan Cairan Tidak Berwarna
Pengujian kadar logam
 24,5~25,5% (Pengujian dengan Titrasi)
Khlorida <500ppm
Kalium (K) <5ppm
Natrium (Na) <5ppm
Warna <50APHA
Standar Uji Standar Perusahaan
Penggunaan untuk Penelitian Fotoresis

Paket & Penyimpanan:

Kemasan: 25kg/Drum, atau sesuai dengan kebutuhan pelanggan.

Kondisi penyimpanan:Simpan dalam wadah tertutup di tempat sejuk dan kering;Lindungi dari cahaya dan kelembaban.

Keuntungan:

1

FAQ:

Aplikasi:

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) adalah garam amonium kuaterner yang umumnya digunakan sebagai etsa anisotropik untuk silikon karena laju etsa silikonnya yang tinggi, pelarut dasar dalam pengembangan fotoresis asam dalam proses fotolitografi, sebagai surfaktan dalam sintesis ferrofluida dan sebagai reagen polarografi.Ia menemukan aplikasi dalam produksi silikon organik, di mana ia digunakan untuk bahan pembersih dan pencerah permukaan wafer silikon komputer.Itu juga terlibat dalam pemurnian beberapa elemen logam.

Tulis pesan Anda di sini dan kirimkan kepada kami