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Idrossido di tetrametilammonio (TMAH) CAS 75-59-2 (soluzione acquosa al 25%)
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Idrossido di tetrametilammonio (TMAH) CAS 75-59-2 (soluzione acquosa al 25%)

Breve descrizione:

Idrossido di tetrametilammonio (soluzione acquosa al 25%)

Sinonimi: TMAH

CAS: 75-59-2

Dosaggio: 24,5~25,5%

Aspetto: liquido incolore

Sali di ammonio quaternario, di alta qualità

Contatto: Dott. Alvin Huang

Cellulare/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Dettagli del prodotto

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Descrizione:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Proprietà chimiche:

Nome chimico Idrossido di tetrametilammonio (soluzione acquosa al 25%)
Sinonimi TMAH (soluzione acquosa al 25%)
Numero CAS 75-59-2
Numero CAT RF-PI1749
Stato delle scorte In magazzino, scala di produzione fino a tonnellate
Formula molecolare (CH3)4NOH
Peso molecolare 91.15
Indice di rifrazione (N20/D) 1.378~1.384
Odore Forte odore simile all'ammoniaca
Avviso di pericolo Altamente tossico!Liquido infiammabile!
Marca Ruifu chimica

Specifiche:

Articolo Specifiche
Aspetto Liquido incolore
Saggio
 24,5~25,5% (saggio per titolazione)
Cloruro <500 ppm
Potassio (K) <5 ppm
Sodio (Na) <5 ppm
Colore <50APHA
Norma di prova Norma aziendale
Utilizzo per la ricerca sul fotoresist

Pacchetto e stoccaggio:

Pacchetto: 25kg/Drum, o secondo il requisito del cliente.

Condizioni di conservazione:Conservare in contenitori sigillati in luogo fresco e asciutto;Proteggere dalla luce e dall'umidità.

Vantaggi:

1

FAQ:

Applicazione:

L'idrossido di tetrametilammonio (TMAH) (CAS: 75-59-2) è un sale di ammonio quaternario generalmente utilizzato come agente di attacco anisotropico per il silicio a causa del suo elevato tasso di attacco del silicio, solvente basico nello sviluppo di fotoresist acido nel processo di fotolitografia, come tensioattivo in la sintesi del ferrofluido e come reagente polarografico.Trova applicazione nella produzione di silicio organico, dove viene utilizzato per brillantante e detergente per superfici di wafer di silicio per computer.È anche coinvolto nella purificazione di alcuni elementi metallici.

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