SBE-β-CD CAS 182410-00-0 ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム分析 95.0~105.0%

ベタデックススルホブチルエーテルナトリウム
C42H70−nO35 · (C4H8SO3Na)n 2163 (n = 6.5 の場合)
ベータシクロデキストリンスルホブチルエーテル、ナトリウム塩;
ベータシクロデキストリンスルホブチルエーテルナトリウム [182410-00-0]。
意味
ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウムは、塩基性条件下で 1,4-ブタン スルトンを使用してベタデックスをアルキル化することによって製造されます。
betadex の平均置換度は NLT 6.2 および NMT 6.9 です。
無水ベースで計算すると、C42H70−nO35・(C4H8SO3Na)n (n = 6.2〜6.9) が NLT 95.0% および NMT 105.0% 含まれます。
身元
• A. 赤外線吸収 <197K>
• B. サンプル溶液の主要ピークの保持時間は、アッセイで得られた標準溶液の保持時間に対応します。
• C. 平均置換度のテストの要件を満たしています。
• D. 識別試験 - 一般、ナトリウム 〈191〉
アッセイ
• 手順
移動相: アセトニトリルと水の混合物 (1:4) 中の 0.1 M 硝酸カリウム
標準溶液: 移動相中の 10 mg/mL の USP Betadex スルホブチル エーテル ナトリウム RS
サンプル溶液: 移動相中の Betadex スルホブチル エーテル ナトリウム 10 mg/mL
クロマトグラフシステム
(クロマトグラフィー <621>、システムの適合性を参照。)
モード: LC
検出器：屈折率
検出器温度: 35 ± 2°
カラム: 7.8 mm × 30 cm 分析カラム。パッキンL37。[注 - 一連の実行が完了したら、アセトニトリルと水の溶液 (1:9) でカラムをすすぎます。
流量: 1.0 mL/分
注入サイズ: 20 μL
システムの適合性。
サンプル：標準液
適合性要件
相対標準偏差: NMT 2.0%
分析
サンプル：標準液とサンプル液
ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの一部に占めるベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウム [C42H70−nO35 · (C4H8SO3Na)n] の割合を計算します。
結果 = (rU/rs) × (CS/CU) × 100
rU = ベータデックススルホブチルエーテルのピーク応答
サンプル溶液からのナトリウム
rS = ベタデックス スルホブチル エーテルのピーク応答
標準溶液からのナトリウム
CS = USP ベータデックス スルホブチル エーテルの濃度
標準溶液中のナトリウム標準溶液 (mg/mL)
CU = サンプル溶液中のベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの濃度 (mg/mL)
合格基準：無水ベースで95.0%～105.0%
不純物
• 重金属、メソッド II <231>: NMT 5 ppm
• ベータシクロデキストリン (BETADEX) の制限
溶液 A: 25 mM 水酸化ナトリウム
溶液 B: 250 mM 水酸化ナトリウムおよび 1 M 硝酸カリウム
移動相: 表 1 を参照してください。
表1

標準溶液: 2 μg/mL USP ベータ シクロデキストリン RS
サンプル溶液: 2 mg/mL ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム
クロマトグラフシステム
(クロマトグラフィー <621>、システム適合性およびイオンクロマトグラフィー <1065> を参照。)
モード: IC
検出器: パルス電流測定 (金の作用電極と銀の参照電極を備えた電流測定セル)
桁
ガード: 4.0 mm × 5 cm 陰イオン交換;パッキンL61
分析用: 4.0 mm × 25 cm 陰イオン交換;
パッキンL61
カラム温度：50±2°
流量: 1.0 mL/分
注入サイズ: 20 μL
パルス電流検出器の波形: 表 2 を参照してください。
表2

システム適合性
サンプル：標準液
適合性要件
相対標準偏差: NMT 5.0%
分析
サンプル：標準液とサンプル液
ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの摂取量に占めるベータ シクロデキストリン (ベータデックス) の割合を計算します。
結果 = (rU/rs) × (CS/CU) × F × 100
rU = サンプル溶液からのベータシクロデキストリンのピーク応答
rS = 標準溶液からのベータシクロデキストリンのピーク応答
CS = 標準溶液中の USP ベータ シクロデキストリン RS の濃度 (μg/mL)
CU = サンプル溶液中のベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの濃度 (mg/mL)
F = 換算係数 (10-3 mg/μg)
合格基準: NMT 0.1%
• 1,4-ブタンスルトンの制限
内部標準液：ジエチルスルホン 0.25μg/mL
標準原液 A: 0.5 μg/mL の 1,4-ブタン スルトン
標準原液 B: 1.0 μg/mL の 1,4-ブタン スルトン
標準原液 C: 2.0 μg/mL の 1,4-ブタン スルトン
サンプル原液: 内部標準溶液中の 250 mg/mL のベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム
ブランク溶液およびサンプル溶液 A、B、C、および D:
表 3 に従って、内標準液、各標準原液、サンプル原液、水、または塩化メチレンの量を各栓付きガラス試験管に入れます。[注 - ネジ蓋付きの 10 mL 試験管が適しています。] 各試験管をボルテックスミキサーで 30 秒間混合し、少なくとも 5 分間、または相が完全に分離するまで放置します。有機相を GC バイアルに抽出し、密封します。[注意 - 水相の量は最小限にするよう細心の注意を払ってください。] サンプル溶液 A、B、C、D における 1,4-ブタン スルトンの添加量は、それぞれ 0.5、1.0、2.0、0 μg です。
表3

[注意-使用直前に準備してください。]
クロマトグラフシステム
(クロマトグラフィー <621>、システムの適合性を参照。)
モード: GC
検出器: 炎イオン化
カラム: 0.32 mm × 25 m フューズドシリカキャピラリカラム。G46 相の 0.5 µm 層
温度
検出器: 270°
注入口：200°
コラム: 表 4 の温度プログラムを参照してください。
表4
初期温度 (°) 温度上昇 (°/分) 最終温度 (°) 最終温度での保持時間 (分)
100 10 200 -
200 35 270 5
キャリアガス: ヘリウム、通常入口圧力 12 psi
注入サイズ: 1.0 μL
注入タイプ: 0.5 分間のスプリットレス注入、その後 50 mL/min でのスプリット。[注 - 適切なスプリットレス射出ライナーの使用をお勧めします。]
システム適合性
サンプル：サンプル溶液B
[注 - ジエチル スルホンと 1,4-ブタン スルトンの相対保持時間は、それぞれ 0.7 と 1.0 です。]
適合性要件
相対標準偏差: NMT 10.0%
分析
サンプル: ブランク溶液、サンプル溶液 A、B、C、および D
ブランク溶液のエチル スルホンに対する 1,4-ブタン スルトンのピーク応答の比を減算して、サンプル ソリューション A、B、C、または D のジエチル スルホンに対する 1,4-ブタン スルトンのピーク応答の比を補正します。 。サンプル溶液 A、B、C または D における 1,4-ブタン スルトンのピーク応答とジエチル スルホンのピーク応答の補正比を、1,4-ブタン スルトンの添加量 (μg) に対してプロットします。グラフ上の点を結ぶ線を数量軸と一致するまで外挿します。この点と軸の交点の間の距離は、サンプル原液 4 mL 部分中の 1,4-ブタン スルトン A の量 (μg) を表します。ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの摂取部分に含まれる 1,4-ブタン スルトンの含有量を計算します。
結果 = A/(VExt × CU × F)
A = 上記で決定
VExt = 抽出ステップで使用されるサンプル原液の容量、4.0 mL
CU = サンプル原液中のベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの濃度 (mg/mL)
F = 換算係数 (10-3 g/mg)
合格基準: ヒドロキシブタン-1-スルホン酸、または NMT 0.5 ppm
• 塩化ナトリウム、4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸、ビス(4-スルホブチル) エーテル二ナトリウムの制限
溶液 A: 5 mM 水酸化ナトリウム、密閉容器内で 15 分間脱気
溶液 B: 25 mM 水酸化ナトリウム、密閉容器内で 15 分間脱気
移動相: 表 5 を参照
表5

カラム洗浄液A：50mMクエン酸ナトリウム
カラム洗浄液B：150mM水酸化ナトリウム
標準溶液: 既知濃度の USP 塩化ナトリウム RS 8 μg/mL、4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸 4 μg/mL、およびビス(4-スルホブチル) エーテル二ナトリウム 4 μg/mL の溶液を調製します。
サンプル溶液: 4 mg/mL ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウム
クロマトグラフシステム
(クロマトグラフィー <621>、システム適合性およびイオンクロマトグラフィー <1065> を参照。)
モード: IC
検出器: 導電率
範囲: 30 μS
電流: 100mA
カラム: [注 - 各実行の最後に、カラム洗浄液 A を流速 1 mL/min で 35 分間使用し、次にカラム洗浄液 B を同じ流速で 35 分間使用してカラムを洗浄します。]
ガード: 4.0 mm × 5.0 cm 陰イオン交換;パッキンL61
分析用: 4.0 mm × 25 cm 陰イオン交換;パッキンL61
カラム温度：30°
サプレッサー: 微小膜アニオン自動サプレッサー 1 または適切な化学抑制システム
抑制剤: 自動抑制
流量: 1.0 mL/分
注入サイズ: 20 μL
システム適合性
サンプル：標準液
[注 - 相対保持時間は情報提供のみを目的としています。4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸イオン、塩素イオン、ビス(スルホブチル)エーテルイオンの相対保持時間は、それぞれ1.0、1.4、8.6です。
適合性要件
解像度: NLT 2.0
相対標準偏差: NMT 10.0%
分析
サンプル：標準液とサンプル液
ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの一部に含まれる塩化ナトリウム、4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸、またはビス(スルホブチル) エーテル 二ナトリウムの割合を計算します。
結果 = (rU/rs) × (CS/CU) × F × 100
rU = サンプル溶液からの塩化ナトリウム、4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸、またはビス(スルホブチル) エーテル 二ナトリウムのピーク応答
rS = 標準溶液からの塩化ナトリウム、4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸、またはビス(スルホブチル) エーテル 二ナトリウムのピーク応答
CS = 標準溶液中の塩化ナトリウム、4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸、またはビス(スルホブチル) エーテル二ナトリウムの濃度 (μg/mL)
CU = サンプル溶液中のベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムの濃度 (mg/mL)
F = 換算係数 (10−3 0 100 0 mg/μg)
合否基準
塩化ナトリウム：NMT 0.2%
4-ヒドロキシブタン-1-スルホン酸：NMT 0.09%
ビス(スルホブチル)エーテル二ナトリウム:NMT 0.05%
特定のテスト
細菌エンドトキシン試験 <85>: 細菌エンドトキシンのレベルは、ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウムが使用される関連する剤形モノグラフの要件を満たすことができる程度です。ラベルに、注射可能な剤形の調製中にベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムをさらに処理する必要があると記載されている場合、細菌内毒素のレベルは、ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウムが使用される関連する剤形モノグラフの要件を満たすようなものです。満たすことができる。
• 微生物計数試験 <61> および特定微生物の試験 <62>: 好気性微生物の総数は 100 cfu/g を超えず、カビと酵母の合計数は 50 cfu/g を超えません。大腸菌非存在検査の要件を満たしています。
• 解決策の明確さ
サンプル溶液：30％（w/v）溶液
分析: 白と黒の背景に対してライトボックスを使用してサンプル溶液を検査し、曇り、蛍光、繊維、斑点、またはその他の異物の存在を記録します。
合格基準: 溶液は透明で、本質的に異物の粒子がありません。
• 平均置換度
電解質の実行: 30 mM 安息香酸、100 mM トリス(ヒドロキシメチル) アミノメタン緩衝液の添加により、使用する機器に適した pH に調整します。
[注 - キャピラリー間のばらつきのため、普遍的に適用できる単一の電解質の pH は指定されていません。
代わりに、個々のキャピラリーに関連する最適な pH は、機器のマニュアルに従って決定する必要があります。]
標準溶液：USP Betadex Sulfobyl Ether Sodium RS 10 mg/mL
サンプル溶液: 10 mg/mL ベータデックス スルホブチル エーテル ナトリウム
キャピラリー洗浄手順: キャピラリー洗浄とサンプル分析には別々の電解液バイアルを使用してください。各分析の前に、毎日分析前洗浄を実行します。キャピラリーを 0.1 N 水酸化ナトリウムで 30 分間、水で 2 時間以内、電解液で 1 時間以内ですすぎます。各注入の前に、次のように注入前すすぎを実行します。キャピラリーを 0.1 N 水酸化ナトリウムで 1 分間洗浄し、電解液で 3 分間洗浄します。新しいキャピラリーを使用する場合、上記の定期的なすすぎに加えて、新しいキャピラリーを最初に使用する前にすすぐ必要があります。新しいキャピラリーを 1 M 水酸化ナトリウムで 1 時間洗浄し、その後 2 時間水ですすいでください。
電気泳動システム
(キャピラリー電気泳動 <1053> を参照。)
モード：高性能CE
検出器: 逆 UV 200 nm、帯域幅 20 nm。[注 - 帯域幅 10 nm の検出波長 205 nm を代替として使用することもできます。
カラム: Sodium Peaks I–X (% ピーク面積) 50 µm × 50 cm 溶融シリカカラム
カラム温度：25°
印加電圧: 0.00 ～ +30.00 kV の直線ランプを 10 分間かけて、その後 30 kV でさらに 20 分間
注入サイズ: 0.5 psi で 10 秒間の等量
システム適合性
サンプル：標準液
[注 - ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウムのピーク I ～ X のおおよその相対移動時間については、表 6 を参照してください (ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウムのピーク I、II、III、...、X には、1、2、3、 ...、それぞれ 10 個のスルホブチル置換基)。相対的な移行時間は、ピークの特定を支援するための情報提供のみを目的としています。]
表6

適合性要件
解像度: NLT 0.9、ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム ピーク IX とベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム ピーク X の間
分析
サンプル：流電解液、水、標準液、サンプル液
34 mbar に相当する 0.5 psi の差圧を 10 秒間加えて標準溶液とサンプル溶液を注入し、続いて 0.5 psi で 2 秒間実行電解液を注入します。[注 - 圧力注入は、水の入ったバイアルを使用して行うか、キャピラリーの出口端で電解液を流してください。]
エレクトロフェログラムを記録し、個々のベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム ピーク (I ～ X) のピーク応答を測定します。エレクトロフェログラムの各ピークの補正ピーク面積 AI を計算します。
補正ピーク面積 A = ピーク面積 x 有効毛細管長 (cm) / 移動時間
補正されたピーク面積を、補正された置換エンベロープ面積の合計に対するパーセンテージとしてそれぞれ表すことで正規化します。
正規化領域、NA: A / n∑i=1 Ai x 100
n = 最高レベルの置換
平均置換度を決定します。
平均置換度 = n∑i=1 (ピークの置換レベル x NA) / 100
合格基準: 平均置換度 6.2 ～ 6.9
ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウムのピーク I ～ X のそれぞれについて、表 7 の限界範囲 (% ピーク面積) を参照してください。
表7

• PH <791>: 4.0 ～ 6.8、二酸化炭素を含まない水の 30% (w/v) 溶液中
• 水の測定、方法 I <921>: NMT 10.0%
追加の要件
• 梱包と保管: 密閉した容器に入れ、室温で保管してください。湿気から守ります。
• ラベル表示: 注射剤の製造における使用を示すラベルを貼ります。
• USP 参照基準 <11>
USP ベータ シクロデキストリン RS
USP ベタデックス スルホブチル エーテル ナトリウム RS
USP エンドトキシン RS
USP 塩化ナトリウム RS■1S (NF30)