English
ტეტრამეთილამონიუმის ჰიდროქსიდი (TMAH) CAS 75-59-2 (25% წყალხსნარი) გამორჩეული სურათი
  • ტეტრამეთილამონიუმის ჰიდროქსიდი (TMAH) CAS 75-59-2 (25% წყალხსნარი)

ტეტრამეთილამონიუმის ჰიდროქსიდი (TMAH) CAS 75-59-2 (25% წყალხსნარი)

Მოკლე აღწერა:

ტეტრამეთილამონიუმის ჰიდროქსიდი (25% წყალხსნარი)

სინონიმები: TMAH

CAS: 75-59-2

ანალიზი: 24.5~25.5%

გარეგნობა: უფერო სითხე

მეოთხეული ამონიუმის მარილები, მაღალი ხარისხის

კონტაქტი: დოქტორი ალვინ ჰუანგი

მობილური/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


პროდუქტის დეტალი

მსგავსი პროდუქტები

პროდუქტის ტეგები

აღწერა:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

ქიმიური თვისებები:

ქიმიური დასახელება ტეტრამეთილამონიუმის ჰიდროქსიდი (25% წყალხსნარი)
სინონიმები TMAH (25% წყალხსნარი)
CAS ნომერი 75-59-2
CAT ნომერი RF-PI1749
საფონდო სტატუსი მარაგში, წარმოების მასშტაბები ტონამდე
Მოლეკულური ფორმულა (CH3)4NOH
Მოლეკულური წონა 91.15
რეფრაქციული ინდექსი (N20/D) 1.378~1.384
სუნი ძლიერი ამიაკის მსგავსი სუნი
საფრთხის გაფრთხილება უაღრესად ტოქსიკური!აალებადი სითხე!
ბრენდი რუიფუ ქიმიური

სპეციფიკაციები:

ელემენტი სპეციფიკაციები
გარეგნობა უფერო სითხე
ანალიზი
 24.5~25.5% (ანალიზი ტიტრაციით)
ქლორიდი <500ppm
კალიუმი (K) <5ppm
ნატრიუმი (Na) <5ppm
ფერი <50APHA
ტესტის სტანდარტი საწარმო სტანდარტი
გამოყენება ფოტორეზისტული კვლევისთვის

შეფუთვა და შენახვა:

პაკეტი: 25 კგ / ბარაბანი, ან მომხმარებლის მოთხოვნის შესაბამისად.

შენახვის მდგომარეობა:შეინახეთ დახურულ კონტეინერებში გრილ და მშრალ ადგილას;დაიცავით სინათლისა და ტენიანობისგან.

უპირატესობები:

1

FAQ:

განაცხადი:

ტეტრამეთილამონიუმის ჰიდროქსიდი (TMAH) (CAS: 75-59-2) არის მეოთხეული ამონიუმის მარილი, რომელიც ზოგადად გამოიყენება სილიკონის ანიზოტროპულ ეტკანტად მისი მაღალი სილიციუმის ატვირთვის სიჩქარის გამო, ძირითადი გამხსნელი ფოტოლითოგრაფიის პროცესში მჟავე ფოტორეზისტის განვითარებაში, როგორც ზედაპირულად აქტიური ნივთიერება. ფეროფლუიდის სინთეზი და როგორც პოლაროგრაფიული რეაგენტი.იგი პოულობს გამოყენებას ორგანული სილიკონის წარმოებაში, სადაც გამოიყენება კომპიუტერის სილიკონის ვაფლის ზედაპირის გასანათებლად და გამწმენდი აგენტისთვის.ის ასევე მონაწილეობს ზოგიერთი მეტალის ელემენტის გაწმენდაში.

დაწერეთ თქვენი მესიჯი აქ და გამოგვიგზავნეთ