English
រូបភាពពិសេស Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Aqueous Solution)
  • Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (ដំណោះស្រាយ Aqueous 25%)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (ដំណោះស្រាយ Aqueous 25%)

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

Tetramethylammonium Hydroxide (ដំណោះស្រាយទឹក 25%)

មានន័យដូច៖ TMAH

CAS: 75-59-2

ការវិភាគ៖ ២៤.៥-២៥.៥%

រូបរាង៖ រាវគ្មានពណ៌

អំបិលអាម៉ូញ៉ូម Quaternary គុណភាពខ្ពស់

ទំនាក់ទំនង៖ លោកវេជ្ជបណ្ឌិត Alvin Huang

ទូរស័ព្ទ/Wechat/WhatsApp៖ +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

ផលិតផលដែលពាក់ព័ន្ធ

ស្លាកផលិតផល

ការពិពណ៌នា៖

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

លក្ខណៈសម្បត្តិគីមី:

ឈ្មោះគីមី Tetramethylammonium Hydroxide (ដំណោះស្រាយទឹក 25%)
សទិសន័យ TMAH (ដំណោះស្រាយទឹក 25%)
លេខ CAS 75-59-2
លេខ CAT RF-PI1749
ស្ថានភាពភាគហ៊ុន នៅក្នុងស្តុក មាត្រដ្ឋានផលិតកម្មរហូតដល់តោន
រូបមន្តម៉ូលេគុល (CH3)4NOH
ទម្ងន់​ម៉ូលេគុល ៩១.១៥
សន្ទស្សន៍ចំណាំងបែរ (N20/D) 1.378 ~ 1.384
ក្លិន ក្លិនអាម៉ូញាក់ខ្លាំង
ការព្រមានអំពីគ្រោះថ្នាក់ ពុលខ្លាំង!វត្ថុរាវងាយឆេះ!
ម៉ាក Ruifu គីមី

លក្ខណៈបច្ចេកទេស:

ធាតុ លក្ខណៈបច្ចេកទេស
រូបរាង រាវគ្មានពណ៌
ការវិភាគ
 24.5 ~ 25.5% (ការវិភាគដោយ Titration)
ក្លរ <500ppm
ប៉ូតាស្យូម (K) <5 ppm
សូដ្យូម (ណា) <5 ppm
ពណ៌ <50APHA
ស្តង់ដារសាកល្បង ស្តង់ដារសហគ្រាស
ការប្រើប្រាស់ សម្រាប់ការស្រាវជ្រាវ Photoresist

កញ្ចប់ និងកន្លែងផ្ទុក៖

កញ្ចប់: 25 គីឡូក្រាម / ស្គរ, ឬបើយោងតាមតម្រូវការរបស់អតិថិជន។

លក្ខខណ្ឌផ្ទុក៖ទុកក្នុងធុងបិទជិតនៅកន្លែងត្រជាក់និងស្ងួត;ការពារពីពន្លឺនិងសំណើម។

គុណសម្បត្តិ៖

១

សំណួរគេសួរញឹកញាប់៖

កម្មវិធី៖

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) គឺជាអំបិលអាម៉ូញ៉ូម quaternary ជាទូទៅត្រូវបានគេប្រើជាសារធាតុ anisotropic etchant សម្រាប់ស៊ីលីកុន ដោយសារតែអត្រាស៊ីលីកុនខ្ពស់របស់វា ដែលជាសារធាតុរំលាយជាមូលដ្ឋានក្នុងការអភិវឌ្ឍនៃ photoresist អាស៊ីតក្នុងដំណើរការ photolithography ដែលជា surfactant នៅក្នុង ការសំយោគ ferrofluid និងជាសារធាតុប៉ូឡូរ៉ាក់។វារកឃើញកម្មវិធីក្នុងការផលិតស៊ីលីកុនសរីរាង្គ ដែលជាកន្លែងដែលវាត្រូវបានប្រើសម្រាប់ការបំភ្លឺផ្ទៃស៊ីលីកុន wafer កុំព្យូទ័រ និងភ្នាក់ងារសម្អាត។វាក៏ពាក់ព័ន្ធនឹងការបន្សុតធាតុលោហធាតុមួយចំនួនផងដែរ។

សរសេរសាររបស់អ្នកនៅទីនេះ ហើយផ្ញើវាមកយើង