English
Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Aqueous Solution) ຮູບພາບແນະນໍາ
  • Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Aqueous Solution)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Aqueous Solution)

ລາຍ​ລະ​ອຽດ​ສັ້ນ​:

Tetramethylammonium Hydroxide (25% Aqueous Solution)

ຄໍາສັບຄ້າຍຄື: TMAH

CAS: 75-59-2

ການ​ທົດ​ສອບ​: 24.5 ~ 25.5​%

ຮູບລັກສະນະ: ແຫຼວບໍ່ມີສີ

ເກືອ Ammonium Quaternary, ຄຸນະພາບສູງ

ຕິດຕໍ່: ດຣ

ມືຖື/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ຜະ​ລິດ​ຕະ​ພັນ​ທີ່​ກ່ຽວ​ຂ້ອງ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ລາຍລະອຽດ:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

ຄຸນສົມບັດທາງເຄມີ:

ຊື່ທາງເຄມີ Tetramethylammonium Hydroxide (25% Aqueous Solution)
ຄຳສັບຄ້າຍຄືກັນ TMAH (25% Aqueous Solution)
ໝາຍເລກ CAS 75-59-2
ໝາຍເລກ CAT RF-PI1749
ສະຖານະຫຼັກຊັບ ໃນຫຼັກຊັບ, ຂະຫນາດການຜະລິດເຖິງໂຕນ
ສູດໂມເລກຸນ (CH3)4NOH
ນ້ຳໜັກໂມເລກຸນ 91.15
ດັດຊະນີສະທ້ອນແສງ (N20/D) 1.378~1.384
ກິ່ນ ກິ່ນແອມໂມເນຍທີ່ເຂັ້ມແຂງ
ຄຳເຕືອນໄພອັນຕະລາຍ ເປັນພິດສູງ!ທາດແຫຼວທີ່ຕິດໄຟ!
ຍີ່ຫໍ້ Ruifu ເຄມີ

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະ:

ລາຍການ ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະ
ຮູບລັກສະນະ ທາດແຫຼວທີ່ບໍ່ມີສີ
ວິເຄາະ
 24.5~25.5% (ການ​ທົດ​ສອບ​ໂດຍ​ການ​ໄຕ​ຕ​໌​)
chloride <500ppm
ໂພແທດຊຽມ (K) <5ppm
ໂຊດຽມ (Na) <5ppm
ສີ <50APHA
ມາດຕະຖານການທົດສອບ ມາດຕະຖານວິສາຫະກິດ
ການນໍາໃຊ້ ສໍາລັບການຄົ້ນຄວ້າ Photoresist

ການຫຸ້ມຫໍ່ & ການເກັບຮັກສາ:

ຊຸດ: 25kg / Drum, ຫຼືຕາມຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າ.

ເງື່ອນໄຂການເກັບຮັກສາ:ເກັບຮັກສາໄວ້ໃນຖັງທີ່ຜະນຶກເຂົ້າກັນໃນບ່ອນທີ່ເຢັນແລະແຫ້ງ;ປົກປ້ອງຈາກແສງສະຫວ່າງແລະຄວາມຊຸ່ມຊື່ນ.

ຂໍ້ດີ:

1

FAQ:

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ:

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) ເປັນເກືອ ammonium quaternary ໂດຍທົ່ວໄປແລ້ວໃຊ້ເປັນ etchant anisotropic ສໍາລັບຊິລິຄອນເນື່ອງຈາກອັດຕາການ etching ຊິລິຄອນສູງ, solvent ພື້ນຖານໃນການພັດທະນາຂອງ photoresist ເປັນກົດໃນຂະບວນການ photolithography, ເປັນ surfactant ໃນ. ການສັງເຄາະຂອງ ferrofluid ແລະເປັນ reagent polarographic.ມັນພົບເຫັນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກໃນການຜະລິດຊິລິໂຄນອິນຊີ, ບ່ອນທີ່ມັນຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບຄອມພິວເຕີ silicon wafer brightener ດ້ານແລະຕົວແທນທໍາຄວາມສະອາດ.ມັນຍັງມີສ່ວນຮ່ວມໃນການເຮັດຄວາມສະອາດຂອງບາງອົງປະກອບໂລຫະ.

ຂຽນຂໍ້ຄວາມຂອງທ່ານທີ່ນີ້ແລະສົ່ງໃຫ້ພວກເຮົາ