English
Tetrametilamonija hidroksīda (TMAH) CAS 75-59-2 (25% ūdens šķīdums) piedāvātais attēls
  • Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH) CAS 75-59-2 (25% ūdens šķīdums)

Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH) CAS 75-59-2 (25% ūdens šķīdums)

Īss apraksts:

Tetrametilamonija hidroksīds (25% ūdens šķīdums)

Sinonīmi: TMAH

CAS: 75-59-2

Pārbaude: 24,5–25,5%

Izskats: bezkrāsains šķidrums

Augstas kvalitātes kvartāra amonija sāļi

Kontaktpersona: Dr Alvin Huang

Mobilais/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Produkta informācija

Saistītie produkti

Produktu etiķetes

Apraksts:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Ķīmiskās īpašības:

Ķīmiskais nosaukums Tetrametilamonija hidroksīds (25% ūdens šķīdums)
Sinonīmi TMAH (25% ūdens šķīdums)
CAS numurs 75-59-2
CAT numurs RF-PI1749
Noliktavas statuss Ir noliktavā, ražošanas apjoms līdz tonnām
Molekulārā formula (CH3)4NOH
Molekulārais svars 91.15
Refrakcijas indekss (N20/D) 1,378 ~ 1,384
Smarža Spēcīga amonjaka smarža
Brīdinājums par bīstamību Ļoti toksisks!Uzliesmojošs šķidrums!
Zīmols Ruifu ķīmiskā viela

Specifikācijas:

Lieta Specifikācijas
Izskats Bezkrāsains šķidrums
Pārbaude
 24,5–25,5% (Titrēšanas pārbaude)
Hlorīds <500ppm
Kālijs (K) <5ppm
Nātrijs (Na) <5ppm
Krāsa <50APHA
Testa standarts Uzņēmuma standarts
Lietošana par Photoresist Research

Iepakojums un uzglabāšana:

Iepakojums: 25 kg / bungas vai atbilstoši klienta prasībām.

Uzglabāšanas stāvoklis:Uzglabāt noslēgtos traukos vēsā un sausā vietā;Sargāt no gaismas un mitruma.

Priekšrocības:

1

FAQ:

Pielietojums:

Tetrametilamonija hidroksīds (TMAH) (CAS: 75-59-2) ir ceturkšņa amonija sāls, ko parasti izmanto kā silīcija anizotropu kodinātāju, pateicoties tā augstajam silīcija kodināšanas ātrumam, bāzisks šķīdinātājs skābā fotorezista izstrādē fotolitogrāfijas procesā, kā virsmaktīvā viela ferofluīda sintēzei un kā polarogrāfiskam reaģentam.Tas tiek izmantots organiskā silīcija ražošanā, kur to izmanto datoru silīcija vafeļu virsmas balinātājam un tīrīšanas līdzeklim.Tas ir iesaistīts arī dažu metālisku elementu attīrīšanā.

Uzrakstiet savu ziņu šeit un nosūtiet to mums