English
Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Larutan Berair) Imej Pilihan
  • Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Larutan Berair)

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) CAS 75-59-2 (25% Larutan Berair)

Penerangan Ringkas:

Tetramethylammonium Hydroxide (25% Larutan Berair)

Sinonim: TMAH

CAS: 75-59-2

Ujian: 24.5~25.5%

Rupa: Cecair Tidak Berwarna

Garam Ammonium Kuaternari, Berkualiti Tinggi

Hubungi: Dr Alvin Huang

Mudah Alih/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Butiran Produk

Produk Berkaitan

Tag Produk

Penerangan:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Sifat Kimia:

Nama Kimia Tetramethylammonium Hydroxide (25% Larutan Berair)
sinonim TMAH (25% Larutan Berair)
Nombor CAS 75-59-2
Nombor CAT RF-PI1749
Status Stok Dalam Stok, Skala Pengeluaran Sehingga Tan
Formula molekul (CH3)4NOH
Berat Molekul 91.15
Indeks Biasan (N20/D) 1.378~1.384
Bau Bau Kuat Seperti Ammonia
Amaran Bahaya Sangat Toksik!Cecair mudah terbakar!
Jenama Kimia Ruifu

Spesifikasi:

item Spesifikasi
Penampilan Cecair Tidak Berwarna
Ujian
 24.5~25.5% (Ujian mengikut Pentitratan)
Klorida <500ppm
Kalium (K) <5ppm
Natrium (Na) <5ppm
Warna <50APHA
Standard Ujian Standard Perusahaan
Penggunaan untuk Penyelidikan Photoresist

Pakej & Storan:

Pakej: 25kg/Drum, atau mengikut keperluan pelanggan.

Keadaan penyimpanan:Simpan dalam bekas bertutup di tempat yang sejuk dan kering;Lindungi daripada cahaya dan kelembapan.

Kelebihan:

1

Soalan Lazim:

Permohonan:

Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) ialah garam ammonium kuaternari yang umumnya digunakan sebagai etsa anisotropik untuk silikon kerana kadar etsa silikonnya yang tinggi, pelarut asas dalam pembangunan fotoresis berasid dalam proses fotolitografi, sebagai surfaktan dalam sintesis ferrofluid dan sebagai reagen polarografi.Ia menemui aplikasi dalam pengeluaran silikon organik, di mana ia digunakan untuk pencerah permukaan wafer silikon komputer dan agen pembersih.Ia juga terlibat dalam penulenan beberapa unsur logam.

Tulis mesej anda di sini dan hantar kepada kami