English
Tetrametylamóniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % vodný roztok) Odporúčaný obrázok
  • Tetrametylamóniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % vodný roztok)

Tetrametylamóniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % vodný roztok)

Stručný opis:

Tetrametylamóniumhydroxid (25% vodný roztok)

Synonymá: TMAH

CAS: 75-59-2

Analýza: 24,5 až 25,5 %

Vzhľad: Bezfarebná kvapalina

Kvartérne amónne soli, vysoká kvalita

Kontakt: Dr. Alvin Huang

Mobil/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Detail produktu

Súvisiace produkty

Štítky produktu

Popis:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Chemické vlastnosti:

Chemický názov Tetrametylamóniumhydroxid (25% vodný roztok)
Synonymá TMAH (25 % vodný roztok)
Číslo CAS 75-59-2
CAT číslo RF-PI1749
Stav skladu Na sklade, rozsah výroby do ton
Molekulárny vzorec (CH3)4NOH
Molekulová hmotnosť 91,15
Index lomu (N20/D) 1,378 až 1,384
Zápach Silný zápach podobný amoniaku
Výstraha pred nebezpečenstvom Vysoko toxické!Horľavá kvapalina!
Značka Ruifu Chemical

technické údaje:

Položka technické údaje
Vzhľad Bezfarebná kvapalina
Skúška
 24,5 až 25,5 % (test titráciou)
Chlorid <500 str./min
draslík (K) <5 str./min
sodík (Na) <5 str./min
Farba <50APHA
Testovací štandard Enterprise Standard
Použitie pre výskum fotorezistu

Balenie a skladovanie:

Balíček: 25 kg / bubon alebo podľa požiadaviek zákazníka.

Stav skladovania:Skladujte v uzavretých nádobách na chladnom a suchom mieste;Chráňte pred svetlom a vlhkosťou.

Výhody:

1

FAQ:

Aplikácia:

Hydroxid tetrametylamónny (TMAH) (CAS: 75-59-2) je kvartérna amóniová soľ všeobecne používaná ako anizotropné leptadlo pre kremík vďaka svojej vysokej rýchlosti leptania kremíka, základné rozpúšťadlo pri vývoji kyslého fotorezistu vo fotolitografickom procese, ako povrchovo aktívne činidlo v syntéza ferrofluidu a ako polarografické činidlo.Uplatnenie nachádza pri výrobe organického kremíka, kde sa používa na zjasnenie povrchu počítačových kremíkových plátkov a čistiaci prostriedok.Podieľa sa aj na čistení niektorých kovových prvkov.

Tu napíšte svoju správu a pošlite nám ju