English
Hidroksid tetrametilamoniumi (TMAH) CAS 75-59-2 (25% tretësirë ​​ujore) Imazhi i veçuar
  • Hidroksid tetrametilamoniumi (TMAH) CAS 75-59-2 (tretësirë ​​ujore 25%)

Hidroksid tetrametilamoniumi (TMAH) CAS 75-59-2 (tretësirë ​​ujore 25%)

Përshkrim i shkurtër:

Hidroksid tetrametilamoniumi (tretësirë ​​ujore 25%)

Sinonimet: TMAH

CAS: 75-59-2

Analiza: 24,5~25,5%

Pamja: Lëng pa ngjyrë

Kripërat e amonit kuaternar, me cilësi të lartë

Kontakt: Dr. Alvin Huang

Mobile/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Detajet e produktit

Produkte të ngjashme

Etiketat e produktit

Përshkrim:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Vetitë kimike:

Emri kimik Hidroksid tetrametilamoniumi (tretësirë ​​ujore 25%)
Sinonimet TMAH (tretësirë ​​ujore 25%)
Numri CAS 75-59-2
Numri CAT RF-PI1749
Statusi i aksioneve Në magazinë, shkalla e prodhimit deri në tonë
Formula molekulare (CH3)4NOH
Peshë molekulare 91.15
Indeksi i thyerjes (N20/D) 1,378~1,384
Erë Erë e fortë si amoniaku
Paralajmërim rreziku Shumë toksike!Lëng i djegshëm!
Markë Ruifu Kimike

Specifikimet:

Artikulli Specifikimet
Pamja e jashtme Lëng pa ngjyrë
Analiza
 24,5~25,5% (Vlerësimi me titrim)
Klorur <500 ppm
Kaliumi (K) <5 ppm
Natriumi (Na) <5 ppm
Ngjyrë <50APHA
Standardi i testit Standardi i Ndërmarrjes
Përdorimi për Kërkimin Photoresist

Paketa dhe ruajtja:

Paketa: 25 kg/Dull, ose sipas kërkesës së klientit.

Kushtet e ruajtjes:Ruani në enë të mbyllura në vend të freskët dhe të thatë;Mbroni nga drita dhe lagështia.

Përparësitë:

1

FAQ:

Aplikacion:

Hidroksidi i tetrametilamoniumit (TMAH) (CAS: 75-59-2) është një kripë kuaternare e amonit që përdoret përgjithësisht si një gravues anizotropik për silikonin për shkak të shkallës së lartë të gravimit të silikonit, tretës bazë në zhvillimin e fotorezistit acid në procesin e fotolitografisë, si surfaktant në sinteza e ferrofluidit dhe si reagent polarografik.Ai gjen aplikim në prodhimin e silikonit organik, ku përdoret për ndriçuesin e sipërfaqes së vaferës silikoni të kompjuterit dhe agjent pastrimi.Përfshihet gjithashtu në pastrimin e disa elementëve metalikë.

Shkruani mesazhin tuaj këtu dhe na dërgoni