English
Tetrametylammoniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % vattenlösning) Utvald bild
  • Tetrametylammoniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % vattenlösning)

Tetrametylammoniumhydroxid (TMAH) CAS 75-59-2 (25 % vattenlösning)

Kort beskrivning:

Tetrametylammoniumhydroxid (25 % vattenlösning)

Synonymer: TMAH

CAS: 75-59-2

Analys: 24,5~25,5%

Utseende: Färglös vätska

Kvartära ammoniumsalter, hög kvalitet

Kontakt: Dr Alvin Huang

Mobil/Wechat/WhatsApp: +86-15026746401

E-Mail: alvin@ruifuchem.com


Produktdetalj

Relaterade produkter

Produkttaggar

Beskrivning:

Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd. is the leading manufacturer and supplier of Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) (CAS: 75-59-2) with high quality, commercial production. We can provide Certificate of Analysis (COA), Safety Data Sheet (SDS), worldwide delivery, small and bulk quantities available, strong after-sale service. Welcome to order. Please contact: alvin@ruifuchem.com

Kemiska egenskaper:

Kemiskt namn Tetrametylammoniumhydroxid (25 % vattenlösning)
Synonymer TMAH (25 % vattenlösning)
CAS-nummer 75-59-2
CAT-nummer RF-PI1749
Lagerstatus I lager, produktionsskala upp till ton
Molekylär formel (CH3)4NOH
Molekylvikt 91,15
Brytningsindex (N20/D) 1,378~1,384
Odör Stark ammoniakliknande lukt
Farovarning Mycket giftigt!Brandfarlig vätska!
varumärke Ruifu Chemical

Specifikationer:

Artikel Specifikationer
Utseende Färglös vätska
Analysera
 24,5~25,5 % (analys genom titrering)
Klorid <500 ppm
Kalium (K) <5 ppm
Natrium (Na) <5 ppm
Färg <50APHA
Teststandard Enterprise Standard
Användande för fotoresistforskning

Paket och förvaring:

Paket: 25 kg/trumma, eller enligt kundens krav.

Lagringstillstånd:Förvara i förslutna behållare på en sval och torr plats;Skydda mot ljus och fukt.

Fördelar:

1

Vanliga frågor:

Ansökan:

Tetrametylammoniumhydroxid (TMAH) (CAS: 75-59-2) är ett kvartärt ammoniumsalt som vanligtvis används som ett anisotropiskt etsmedel för kisel på grund av dess höga kiseletsningshastighet, basiskt lösningsmedel vid utveckling av sur fotoresist i fotolitografiprocess, som ytaktivt ämne i syntesen av ferrofluid och som ett polarografiskt reagens.Det finner tillämpning i produktionen av organiskt kisel, där det används som blekmedel och rengöringsmedel för datorkiselskivor.Det är också involverat i reningen av vissa metalliska element.

Skriv ditt meddelande här och skicka det till oss